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专利摘要

本发明公开了一种用于涂布机的刮拭装置,包括:刮拭基座;设置在阻隔室中的用以对刮拭基座进行驱动的驱动马达,驱动马达和刮拭基座通过连接杆进行连接,其中:阻隔室包括:用以装设驱动马达的容置区;设在刮拭基座和容置区之间的阻隔区,阻隔区与容置区相连通,阻隔区将刮拭基座所在的工作区和容置区隔离。
本发明还公开了一种涂布机。
实施本发明的涂布机及其刮拭装置,能够增强隔离效果,有效避免光阻飞溅至驱动源,从而保证刮拭效果和设备正常作业;结构精简,传动安全可靠,便于维修和维护。

专利状态

基础信息

专利号
CN201711432393.3
申请日
2017-12-26
公开日
2018-05-15
公开号
CN108037635A
主分类号
/B/B05/ 作业;运输
标准类别
一般喷射或雾化;对表面涂覆液体或其他流体的一般方法
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

何文超

申请人

深圳市华星光电半导体显示技术有限公司

申请人地址

518000 广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号

专利摘要

本发明公开了一种用于涂布机的刮拭装置,包括:刮拭基座;设置在阻隔室中的用以对刮拭基座进行驱动的驱动马达,驱动马达和刮拭基座通过连接杆进行连接,其中:阻隔室包括:用以装设驱动马达的容置区;设在刮拭基座和容置区之间的阻隔区,阻隔区与容置区相连通,阻隔区将刮拭基座所在的工作区和容置区隔离。
本发明还公开了一种涂布机。
实施本发明的涂布机及其刮拭装置,能够增强隔离效果,有效避免光阻飞溅至驱动源,从而保证刮拭效果和设备正常作业;结构精简,传动安全可靠,便于维修和维护。

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