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专利摘要

本发明涉及硅片生产领域,具体的说是一种多晶硅片生产装置,包括支撑台、储存机构、清洗机构、驱动机构、除杂机构、固定机构和接水盘;储存机构的内部居中处安装清洗机构,且储存机构的侧壁安装驱动机构,驱动机构转动连接清除机构,当清洗多晶硅片时,打开驱动机构,驱动机构带动清洗机构转动,将多晶硅片放入储存机构的内部,清洗机构转动和储存机构内部的纯净水与多晶硅片接触,将多晶硅片的表面灰尘擦净,清洗方便,且滑动或转动多晶硅片即可将多晶硅片清洗干净,从而加快多晶硅片的清洗效率;当将多晶硅片清洗干净后,将多晶硅片放入两个除杂机构之间,多晶硅片在两个除杂机构之间滑动,使除杂机构将多晶硅片表面的水擦拭干净。

专利状态

基础信息

专利号
CN201811595887.8
申请日
2018-12-26
公开日
2021-07-23
公开号
CN109731819B
主分类号
/B/B08/ 作业;运输
标准类别
清洁
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

顾雨彤 林继承 吴国秋

申请人

中环艾能(高邮)能源科技有限公司

申请人地址

225600 江苏省扬州市高邮经济开发区G233西侧、洞庭湖路南侧

专利摘要

本发明涉及硅片生产领域,具体的说是一种多晶硅片生产装置,包括支撑台、储存机构、清洗机构、驱动机构、除杂机构、固定机构和接水盘;储存机构的内部居中处安装清洗机构,且储存机构的侧壁安装驱动机构,驱动机构转动连接清除机构,当清洗多晶硅片时,打开驱动机构,驱动机构带动清洗机构转动,将多晶硅片放入储存机构的内部,清洗机构转动和储存机构内部的纯净水与多晶硅片接触,将多晶硅片的表面灰尘擦净,清洗方便,且滑动或转动多晶硅片即可将多晶硅片清洗干净,从而加快多晶硅片的清洗效率;当将多晶硅片清洗干净后,将多晶硅片放入两个除杂机构之间,多晶硅片在两个除杂机构之间滑动,使除杂机构将多晶硅片表面的水擦拭干净。

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