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专利摘要

本发明涉及硅片打磨装置技术领域,且公开了一种拉升式可稳定打磨的硅片打磨装置及其打磨方法,包括工作板,所述工作板顶部的左右两侧均固定连接有安装板,两个安装板的顶部固定连接有横板,横板的顶部开设有五个通孔。
本发明解决了现在的硅片在进行打磨的时候,不能够稳定的进行打磨,同时在打磨过程中往往会存在打磨力度调整不均会损坏硅片,会导致硅片在加工的时候,成品率降低的问题。
本发明通过拉升机构的电机B工作,使得转轴B转动,转筒旋转,并且带动两侧的绳索移动,使得绳索另一端的环形底座向上可以稳定的移动,便于进行打磨,使得打磨更为稳定,方便进行使用,也保护了硅片在打磨时候不会被碎坏,提高的打磨硅片的稳定性。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010947576.4
申请日
2018-04-11
公开日
2021-07-27
公开号
CN112025506B
主分类号
/B/B24/ 作业;运输
标准类别
磨削;抛光
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

方泽波

申请人

绍兴文理学院

申请人地址

312000 浙江省绍兴市越城区环城西路508号

专利摘要

本发明涉及硅片打磨装置技术领域,且公开了一种拉升式可稳定打磨的硅片打磨装置及其打磨方法,包括工作板,所述工作板顶部的左右两侧均固定连接有安装板,两个安装板的顶部固定连接有横板,横板的顶部开设有五个通孔。
本发明解决了现在的硅片在进行打磨的时候,不能够稳定的进行打磨,同时在打磨过程中往往会存在打磨力度调整不均会损坏硅片,会导致硅片在加工的时候,成品率降低的问题。
本发明通过拉升机构的电机B工作,使得转轴B转动,转筒旋转,并且带动两侧的绳索移动,使得绳索另一端的环形底座向上可以稳定的移动,便于进行打磨,使得打磨更为稳定,方便进行使用,也保护了硅片在打磨时候不会被碎坏,提高的打磨硅片的稳定性。

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