本发明公开一种防爆、防辐射双层复合式手机保护膜的制备工艺，该保护膜包括防指纹层和防辐射基材层，该保护膜的制备工艺包括如下步骤：第一步、防辐射基材层的制备；第二步、防指纹层的制备；第三步、将防辐射基材层一侧和防指纹层通过胶粘剂进行复合，制得所述防爆、防辐射双层复合式手机保护膜；该薄膜中通过将聚醚醚酮薄膜和氧化石墨烯/氮化硅粒子结合，制成复合膜，能够提高聚合物和微粒组分在分子水平上的相容性，赋予该氧化石墨烯/氮化硅复合薄膜良好的防辐射性能和抗菌性能，而且氧化石墨烯/氮化硅复合粒子能够赋予该膜优异的耐磨性能。

余正波 程承敏

江西昊泽光学膜科技有限公司

333100 江西省上饶市鄱阳县工业园区芦田轻工产业基地

本发明公开一种防爆、防辐射双层复合式手机保护膜的制备工艺，该保护膜包括防指纹层和防辐射基材层，该保护膜的制备工艺包括如下步骤：第一步、防辐射基材层的制备；第二步、防指纹层的制备；第三步、将防辐射基材层一侧和防指纹层通过胶粘剂进行复合，制得所述防爆、防辐射双层复合式手机保护膜；该薄膜中通过将聚醚醚酮薄膜和氧化石墨烯/氮化硅粒子结合，制成复合膜，能够提高聚合物和微粒组分在分子水平上的相容性，赋予该氧化石墨烯/氮化硅复合薄膜良好的防辐射性能和抗菌性能，而且氧化石墨烯/氮化硅复合粒子能够赋予该膜优异的耐磨性能。