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专利摘要

公开了一种用于在衬底的表面的选定区域中进行热转印打印的方法和设备。
所述方法包括以下步骤:a)提供具有成像表面的转印构件;b)将由热塑性聚合物形成的或涂覆有热塑性聚合物的各个颗粒涂覆至转印构件的成像表面;c)基本上除去不与成像表面直接接触的所有颗粒,从而在成像表面上留下均匀的单层颗粒涂层,d)对已涂覆的成像表面的选定区域施加能量,以加热并使在选定区域中的颗粒发黏,以及e)在施加能量的期间或之后,使已涂覆的成像表面的至少一部分和衬底表面对应的至少一部分互相挤压,从而仅使已经发黏的颗粒涂层区域转印到所述衬底表面。
可以重复步骤b)和c)将新的单层颗粒涂层涂敷到已经将先前涂敷的单层涂层从其上转印到衬底表面的选定区域,以再次在成像表面留下均匀涂覆的单层颗粒,以打印到随后的衬底表面上。

专利状态

基础信息

专利号
CN201680091297.4
申请日
2016-11-30
公开日
2019-07-16
公开号
CN110023092A
主分类号
/B/B41/ 作业;运输
标准类别
印刷;排版机;打字机;模印机
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

本锡安·兰达 萨希·阿布拉莫维奇 阿米特·哈维夫 奥弗·阿克南 雅各布·瓦尔德曼 迈克尔·纳格勒

申请人

兰达实验室(2012)有限公司

申请人地址

以色列雷霍沃特

专利摘要

公开了一种用于在衬底的表面的选定区域中进行热转印打印的方法和设备。
所述方法包括以下步骤:a)提供具有成像表面的转印构件;b)将由热塑性聚合物形成的或涂覆有热塑性聚合物的各个颗粒涂覆至转印构件的成像表面;c)基本上除去不与成像表面直接接触的所有颗粒,从而在成像表面上留下均匀的单层颗粒涂层,d)对已涂覆的成像表面的选定区域施加能量,以加热并使在选定区域中的颗粒发黏,以及e)在施加能量的期间或之后,使已涂覆的成像表面的至少一部分和衬底表面对应的至少一部分互相挤压,从而仅使已经发黏的颗粒涂层区域转印到所述衬底表面。
可以重复步骤b)和c)将新的单层颗粒涂层涂敷到已经将先前涂敷的单层涂层从其上转印到衬底表面的选定区域,以再次在成像表面留下均匀涂覆的单层颗粒,以打印到随后的衬底表面上。

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