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专利摘要

本发明公开了一种可制备全息彩色图案的材料及其制备方法和应用。
所述材料由光敏性基团和聚合物接枝形成,其中光敏性基团占材料的质量分数为1~25%,所述光敏性基团的结构如式(Ⅰ)所示;其中所述聚合物的分子链上含有可与羟基反应的基团,选自聚氨酯、环氧树脂、聚丙烯酸、聚丙烯酸丁酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氨酯、聚酰胺酸或聚酰亚胺中的一种或多种。
本发明所述材料可在多种基底材料表面形成带有图案、具有二维凹凸结构的薄膜,在透射光或者反射光下由于衍射效应,观察到明显的彩虹色图案,且图案颜色有强烈的角度依赖性,具有幻彩的效果;另外,所述材料的制备简单、基底适用性广,在防伪、装饰等领域具有广阔的应用前景。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010351794.1
申请日
2020-04-28
公开日
2021-05-25
公开号
CN111546805B
主分类号
/B/B42/ 作业;运输
标准类别
装订;图册;文件夹;特种印刷品
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

洪炜

申请人

中山大学

申请人地址

510275 广东省广州市海珠区新港西路135号

专利摘要

本发明公开了一种可制备全息彩色图案的材料及其制备方法和应用。
所述材料由光敏性基团和聚合物接枝形成,其中光敏性基团占材料的质量分数为1~25%,所述光敏性基团的结构如式(Ⅰ)所示;其中所述聚合物的分子链上含有可与羟基反应的基团,选自聚氨酯、环氧树脂、聚丙烯酸、聚丙烯酸丁酯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氨酯、聚酰胺酸或聚酰亚胺中的一种或多种。
本发明所述材料可在多种基底材料表面形成带有图案、具有二维凹凸结构的薄膜,在透射光或者反射光下由于衍射效应,观察到明显的彩虹色图案,且图案颜色有强烈的角度依赖性,具有幻彩的效果;另外,所述材料的制备简单、基底适用性广,在防伪、装饰等领域具有广阔的应用前景。

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