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专利摘要

本发明提供了一种宽高比恒定的微结构的制备方法,该方法包括首先利用光刻法选择性曝光制备出表面具有微结构图案的基底,再于微结构图案中填充牺牲层液体,最后倾倒PDMS并固化后得到宽高比恒定的微结构。
同时本发明也提供了一种具有由以上方法所制备的微结构的PDMS弹性体。
本发明所述的制备方法可在PDMS上制备出宽高比恒定的微结构,且该制备方法仅通过基底表面微结构图案制备、填充牺牲层液体,以及PDMS平铺固化即可完成制备,整体工艺简单,操作简便,有利于推广应用。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010213903.3
申请日
2020-03-24
公开日
2020-12-22
公开号
CN112110412A
主分类号
/B/B81/ 作业;运输
标准类别
微观结构技术
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

时权 巫金波 何仲 温维佳 张萌颖 薛厂

申请人

上海大学

申请人地址

201800 上海市嘉定区城中路20号上海大学化学楼416室

专利摘要

本发明提供了一种宽高比恒定的微结构的制备方法,该方法包括首先利用光刻法选择性曝光制备出表面具有微结构图案的基底,再于微结构图案中填充牺牲层液体,最后倾倒PDMS并固化后得到宽高比恒定的微结构。
同时本发明也提供了一种具有由以上方法所制备的微结构的PDMS弹性体。
本发明所述的制备方法可在PDMS上制备出宽高比恒定的微结构,且该制备方法仅通过基底表面微结构图案制备、填充牺牲层液体,以及PDMS平铺固化即可完成制备,整体工艺简单,操作简便,有利于推广应用。

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