本发明提供一种纳米流体设备，其具备第一基板和第二基板，所述第一基板在一个面上具有纳米尺度的槽，所述第二基板是对第二基板与该第一基板彼此相对的一个面之间进行接合而一体化设置，并且与前述第一基板的槽共同形成纳米流路，其中，前述第一基板或前述第二基板中的任一者，在俯视时与前述纳米流路重叠的位置的一部分中至少具有薄壁部，前述薄壁部通过按压而产生变形，由此来打开/关闭前述纳米流路。

嘉副裕 尤里依·皮霍施 北森武彦

国立研究开发法人科学技术振兴机构

日本埼玉县

本发明提供一种纳米流体设备，其具备第一基板和第二基板，所述第一基板在一个面上具有纳米尺度的槽，所述第二基板是对第二基板与该第一基板彼此相对的一个面之间进行接合而一体化设置，并且与前述第一基板的槽共同形成纳米流路，其中，前述第一基板或前述第二基板中的任一者，在俯视时与前述纳米流路重叠的位置的一部分中至少具有薄壁部，前述薄壁部通过按压而产生变形，由此来打开/关闭前述纳米流路。