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专利摘要

本发明提供一种基于硫酸盐还原菌降解高锝酸根离子的方法,属于环境保护领域,以解决目前降解高锝酸根离子的方法存在费用高、稳定性差、存在一定的安全隐患及具有局限性的问题。
包括如下步骤:S1,驯化培养硫酸盐还原菌:先配置硫酸盐还原菌培养基,然后在硫酸盐还原菌培养基中对硫酸盐还原菌进行驯化培养,得到硫酸盐还原菌;S2,将硫酸盐还原菌培养基的pH调整至4.5‑8.5;将待降解的含TcO4‑的溶液的浓度调整至5‑25μg/ml、温度调整至20‑40℃,得到待反应的溶液;S3,将硫酸盐还原菌加入调整好pH的硫酸盐还原菌培养基中进行培养,待硫酸盐还原菌培养好后加入待反应的溶液中进行降解反应。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910511772.4
申请日
2019-06-13
公开日
2019-09-13
公开号
CN110228854A
主分类号
/C/C02/ 化学;冶金
标准类别
水、废水、污水或污泥的处理
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-公开

发明人

吉莉 钱天伟 李娜 李一菲

申请人

太原科技大学

申请人地址

030024 山西省太原市万柏林区窊流路66号太原科技大学

专利摘要

本发明提供一种基于硫酸盐还原菌降解高锝酸根离子的方法,属于环境保护领域,以解决目前降解高锝酸根离子的方法存在费用高、稳定性差、存在一定的安全隐患及具有局限性的问题。
包括如下步骤:S1,驯化培养硫酸盐还原菌:先配置硫酸盐还原菌培养基,然后在硫酸盐还原菌培养基中对硫酸盐还原菌进行驯化培养,得到硫酸盐还原菌;S2,将硫酸盐还原菌培养基的pH调整至4.5‑8.5;将待降解的含TcO4‑的溶液的浓度调整至5‑25μg/ml、温度调整至20‑40℃,得到待反应的溶液;S3,将硫酸盐还原菌加入调整好pH的硫酸盐还原菌培养基中进行培养,待硫酸盐还原菌培养好后加入待反应的溶液中进行降解反应。

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