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专利摘要

本发明公开了高精度超薄玻璃的旋转蚀刻装置及旋转蚀刻方法,装置包括:夹具,用于装载玻璃基板;篮具,用于固定若干个装载有玻璃基板的夹具;CST托盘,用于安装篮具,能够大幅移动和小幅摆动并且能够控制篮具旋转;蚀刻设备,具有能够在CST托盘顶部或者两侧喷射蚀刻液的蚀刻区和能够在CST托盘顶部或者两侧喷射清洗液的清洗区。
方法采用上述高精度超薄玻璃的旋转蚀刻装置进行高精度超薄玻璃的蚀刻,高精度超薄玻璃的厚度为0.03~0.1mm、厚度偏差为玻璃厚度的±5%。
本发明可确保玻璃基板所有面的蚀刻条件达到同一,提高厚度精密度并改善表面品质的旋转蚀刻装置及旋转蚀刻方法。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010116316.2
申请日
2020-02-25
公开日
2021-03-19
公开号
CN111285612B
主分类号
/C/C03/ 化学;冶金
标准类别
玻璃;矿棉或渣棉
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

朴钟先 张永强 阳利民 沈于乔 李银姬

申请人

拓米(成都)应用技术研究院有限公司

申请人地址

610000 四川省成都市郫都区德源镇(菁蓉镇)创客公园二期7号楼

专利摘要

本发明公开了高精度超薄玻璃的旋转蚀刻装置及旋转蚀刻方法,装置包括:夹具,用于装载玻璃基板;篮具,用于固定若干个装载有玻璃基板的夹具;CST托盘,用于安装篮具,能够大幅移动和小幅摆动并且能够控制篮具旋转;蚀刻设备,具有能够在CST托盘顶部或者两侧喷射蚀刻液的蚀刻区和能够在CST托盘顶部或者两侧喷射清洗液的清洗区。
方法采用上述高精度超薄玻璃的旋转蚀刻装置进行高精度超薄玻璃的蚀刻,高精度超薄玻璃的厚度为0.03~0.1mm、厚度偏差为玻璃厚度的±5%。
本发明可确保玻璃基板所有面的蚀刻条件达到同一,提高厚度精密度并改善表面品质的旋转蚀刻装置及旋转蚀刻方法。

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