本发明提供化学‑机械抛光组合物，其含有：(a)研磨剂颗粒；(b)具有约1至约2的辛醇‑水logP的唑类化合物；(c)钴腐蚀抑制剂，其中该钴腐蚀抑制剂包含阴离子型头基及C

S.克拉夫特 P.W.卡特 J.西博尔德

嘉柏微电子材料股份公司

美国伊利诺伊州

本发明提供化学‑机械抛光组合物，其含有：(a)研磨剂颗粒；(b)具有约1至约2的辛醇‑水logP的唑类化合物；(c)钴腐蚀抑制剂，其中该钴腐蚀抑制剂包含阴离子型头基及C