本申请涉及用于减少缺陷的抛光组合物及其使用方法。
化学机械抛光组合物包含磨料、第一去除速率增强剂和水，其中当使用0.2μm的面元尺寸测量时，抛光组合物对于以下关系具有小于800000的值：大颗粒计数/磨料重量百分比。

詹姆斯·麦克多诺 绍尔·阿尔瓦拉多

富士胶片电子材料美国有限公司

美国罗得岛州

本申请涉及用于减少缺陷的抛光组合物及其使用方法。
化学机械抛光组合物包含磨料、第一去除速率增强剂和水，其中当使用0.2μm的面元尺寸测量时，抛光组合物对于以下关系具有小于800000的值：大颗粒计数/磨料重量百分比。