本发明公开了一种抛光液及其制备方法和应用，以质量百分含量计，抛光液由以下组分组成：无机碱性化合物1～20％，添加剂0.1～1％，余量为去离子水；添加剂由以下组分组成：异辛醇聚氧乙烯醚磷酸酯0.01～0.5％，烷基多糖苷0.5～5％，余量为去离子水；制备方法：1)按照添加剂中各组分的质量占比称取各组分，然后将各组分相混合，即得添加剂；2)按照抛光液中各组分的质量占比称取各原料，先将无机碱性化合物加入去离子水中，然后再与步骤(1)制备的添加剂相混合，即得抛光液；应用：抛光液在金刚线切割多晶硅片后抛光过程中的应用；本发明的抛光液具有使被处理后的多晶硅减薄量极少，还能间接地提升光电转化率。

金炳生 高小云 刘兵

苏州晶瑞化学股份有限公司

215214 江苏省苏州市吴中经济开发区澄湖东路3号

本发明公开了一种抛光液及其制备方法和应用，以质量百分含量计，抛光液由以下组分组成：无机碱性化合物1～20％，添加剂0.1～1％，余量为去离子水；添加剂由以下组分组成：异辛醇聚氧乙烯醚磷酸酯0.01～0.5％，烷基多糖苷0.5～5％，余量为去离子水；制备方法：1)按照添加剂中各组分的质量占比称取各组分，然后将各组分相混合，即得添加剂；2)按照抛光液中各组分的质量占比称取各原料，先将无机碱性化合物加入去离子水中，然后再与步骤(1)制备的添加剂相混合，即得抛光液；应用：抛光液在金刚线切割多晶硅片后抛光过程中的应用；本发明的抛光液具有使被处理后的多晶硅减薄量极少，还能间接地提升光电转化率。