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专利摘要

本发明的目的在于公开氧化铝抛光粉及其制备方法,所述氧化铝抛光粉按照质量百分比计,由40%‑60%活性氧化铝、20%‑30%草酸、20%‑30%草酸盐、1%‑10%铜盐组成。
与现有的产品和技术相比,具有工艺简单,抛光精度高,制品亮度高等优点,广泛应用于大理石镜片抛光。

专利状态

基础信息

专利号
CN201610496464.5
申请日
2016-06-29
公开日
2020-09-18
公开号
CN106433482B
主分类号
/C/C09/ 化学;冶金
标准类别
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

赵月昌 杨筱琼 蒙素玲 高玮

申请人

上海华明高纳稀土新材料有限公司

申请人地址

201613 上海市松江区中辰路128号1幢1层B区

专利摘要

本发明的目的在于公开氧化铝抛光粉及其制备方法,所述氧化铝抛光粉按照质量百分比计,由40%‑60%活性氧化铝、20%‑30%草酸、20%‑30%草酸盐、1%‑10%铜盐组成。
与现有的产品和技术相比,具有工艺简单,抛光精度高,制品亮度高等优点,广泛应用于大理石镜片抛光。

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