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专利摘要

本申请涉及表现出聚集诱导发光性的发光体,其中T1、T2和T3包含一个或多个多炔作为共轭桥。
本申请还涉及一种AIEgen,其包含:作为强吸电子基团的亲水性吡啶基;作为给电子基团的哌嗪基团和α‑氰基二苯乙烯;其中所述AIEgen表现出聚集诱导发光性。
本申请还涉及一种合成AIEgen的方法,并且进一步涉及一种标记方法,该方法包括:将具有细胞的对象与由AIEgen与抗体偶联形成的偶联物一起孵育;以及通过点亮型成像选择性地标记目的细胞,其中通过AIEgen的荧光发射选择性染色目的细胞进行标记,所述荧光发射是基于偶联物通过胞吞作用细胞内化后的抗体降解。

专利状态

基础信息

专利号
CN201780037847.9
申请日
2017-07-21
公开日
2019-02-05
公开号
CN109313135A
主分类号
/C/C09/ 化学;冶金
标准类别
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

唐本忠 石秀娟 余义勇 郭子健 赵征 张鹏飞 苏会芳

申请人

香港科技大学

申请人地址

中国香港九龙清水湾

专利摘要

本申请涉及表现出聚集诱导发光性的发光体,其中T1、T2和T3包含一个或多个多炔作为共轭桥。
本申请还涉及一种AIEgen,其包含:作为强吸电子基团的亲水性吡啶基;作为给电子基团的哌嗪基团和α‑氰基二苯乙烯;其中所述AIEgen表现出聚集诱导发光性。
本申请还涉及一种合成AIEgen的方法,并且进一步涉及一种标记方法,该方法包括:将具有细胞的对象与由AIEgen与抗体偶联形成的偶联物一起孵育;以及通过点亮型成像选择性地标记目的细胞,其中通过AIEgen的荧光发射选择性染色目的细胞进行标记,所述荧光发射是基于偶联物通过胞吞作用细胞内化后的抗体降解。

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