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专利摘要

本发明实施例公开了一种氮化镓衬底材料的抛光液,包括抛光颗粒、腐蚀剂、氧化剂、有序催化剂、分散稳定剂和水,各组分重量百分比含量为:抛光颗粒10~50wt%;腐蚀剂0.1~20wt%;氧化剂0.01~10wt%;有序催化剂0.0001~10wt%;分散稳定剂0.01~10wt%;水余量。
本发明在抛光液中添加了有序催化剂,该催化剂通过合成、改性方法制备,其表面具有特殊结构、电子排布、表面基团,在抛光中可以有序吸附在氮化镓表面,从而提高抛光液的去除速率。

专利状态

基础信息

专利号
CN202011008767.0
申请日
2020-09-23
公开日
2020-12-25
公开号
CN112126357A
主分类号
/C/C09/ 化学;冶金
标准类别
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

潘国顺 陈高攀 罗海梅

申请人

深圳清华大学研究院

申请人地址

518000 广东省深圳市南山区粤海街道高新技术工业村

专利摘要

本发明实施例公开了一种氮化镓衬底材料的抛光液,包括抛光颗粒、腐蚀剂、氧化剂、有序催化剂、分散稳定剂和水,各组分重量百分比含量为:抛光颗粒10~50wt%;腐蚀剂0.1~20wt%;氧化剂0.01~10wt%;有序催化剂0.0001~10wt%;分散稳定剂0.01~10wt%;水余量。
本发明在抛光液中添加了有序催化剂,该催化剂通过合成、改性方法制备,其表面具有特殊结构、电子排布、表面基团,在抛光中可以有序吸附在氮化镓表面,从而提高抛光液的去除速率。

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