本发明涉及一种精抛方法，该精抛方法通过将待抛光面为非圆周面的待抛光件固定于抛光治具的固定机构上，且待抛光件需要增大磨削量的面靠近立柱，减小不同面之间的磨削程度的差异，从而使得待抛光面为非圆周面的待抛光件的各个被抛光的面在抛光过程中受到的摩擦阻力均匀、磨削程度相差小而抛光均匀，提高生产良率。

刘平 苏禹宾 张举 陈亮

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本发明涉及一种精抛方法，该精抛方法通过将待抛光面为非圆周面的待抛光件固定于抛光治具的固定机构上，且待抛光件需要增大磨削量的面靠近立柱，减小不同面之间的磨削程度的差异，从而使得待抛光面为非圆周面的待抛光件的各个被抛光的面在抛光过程中受到的摩擦阻力均匀、磨削程度相差小而抛光均匀，提高生产良率。