本发明公开了一种镭射电化铝烫印背胶及其制备方法，其原料包括：马来酸酐‑乙酸乙烯酯‑甲基丙烯酸酯共聚物、氯丁二烯‑丙烯酸‑丙烯酸酯共聚物、气相二氧化硅和溶剂；所述马来酸酐‑乙酸乙烯酯‑甲基丙烯酸酯共聚物的原料按重量分数计包括：马来酸酐1～2份、乙酸乙烯酯1～2份、甲基丙烯酸酯类单体5～8份；所述氯丁二烯‑丙烯酸‑丙烯酸酯共聚物的原料按重量分数计包括：氯丁二烯2～4份、丙烯酸2～4份、丙烯酸酯类单体4～8份；该镭射电化铝烫印背胶具有良好的附着力和抗剥离力，在使用该背胶时，烫印效果好、清晰度高；且软化点合适无反粘连现象。

赵壹 阮琳 刘雨萍 李勇杰

武汉华中科大新材料股份有限公司

430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区华师科技园华师园三路5号

本发明公开了一种镭射电化铝烫印背胶及其制备方法，其原料包括：马来酸酐‑乙酸乙烯酯‑甲基丙烯酸酯共聚物、氯丁二烯‑丙烯酸‑丙烯酸酯共聚物、气相二氧化硅和溶剂；所述马来酸酐‑乙酸乙烯酯‑甲基丙烯酸酯共聚物的原料按重量分数计包括：马来酸酐1～2份、乙酸乙烯酯1～2份、甲基丙烯酸酯类单体5～8份；所述氯丁二烯‑丙烯酸‑丙烯酸酯共聚物的原料按重量分数计包括：氯丁二烯2～4份、丙烯酸2～4份、丙烯酸酯类单体4～8份；该镭射电化铝烫印背胶具有良好的附着力和抗剥离力，在使用该背胶时，烫印效果好、清晰度高；且软化点合适无反粘连现象。