本发明公开了一种陶瓷清洗液及其制备方法和应用，该陶瓷清洗液包括以下重量份组分：氢氧化钠5～10％、多聚磷酸钠3～10％、羟甲基纤维素3～10％、乙二胺四乙酸四钠盐3～10％、脂肪醇醚羧酸盐3～10％和去离子水余量。
针对研磨抛光过程中产生的污染物，该陶瓷清洗液具有较好的清洁效果，同时，对产品基本无损伤。

陈森军 董景涛

绍兴自远磨具有限公司

312300 浙江省绍兴市上虞区梁湖镇倪家堡村

本发明公开了一种陶瓷清洗液及其制备方法和应用，该陶瓷清洗液包括以下重量份组分：氢氧化钠5～10％、多聚磷酸钠3～10％、羟甲基纤维素3～10％、乙二胺四乙酸四钠盐3～10％、脂肪醇醚羧酸盐3～10％和去离子水余量。
针对研磨抛光过程中产生的污染物，该陶瓷清洗液具有较好的清洁效果，同时，对产品基本无损伤。