本发明的目的在于提供一种金属掩模用原材料，其氧化物系非金属夹杂物微细，个数也非常少，能够呈现优异的蚀刻加工性。
一种金属掩模用原材料及其制造方法，所述金属掩模用原材料具有以质量％计，含有C：0.01％以下、Si：0.5％以下、Mn：1.0％以下、Ni：30％～50％，剩余部分为Fe及不可避免的杂质的组成，其中，所述金属掩模用原材料每1g中，直径超过10.0μm的氧化物系非金属夹杂物为2.0个以下，直径为6.0μm～10.0μm的氧化物系非金属夹杂物的个数为20.0个以下，并且所述金属掩模用原材料为板厚0.25mm以下的薄板形状。

大森章博 羽田野雄一

日立金属株式会社

日本东京港区港南一丁目2番70号(邮递区号:108-8224)

本发明的目的在于提供一种金属掩模用原材料，其氧化物系非金属夹杂物微细，个数也非常少，能够呈现优异的蚀刻加工性。
一种金属掩模用原材料及其制造方法，所述金属掩模用原材料具有以质量％计，含有C：0.01％以下、Si：0.5％以下、Mn：1.0％以下、Ni：30％～50％，剩余部分为Fe及不可避免的杂质的组成，其中，所述金属掩模用原材料每1g中，直径超过10.0μm的氧化物系非金属夹杂物为2.0个以下，直径为6.0μm～10.0μm的氧化物系非金属夹杂物的个数为20.0个以下，并且所述金属掩模用原材料为板厚0.25mm以下的薄板形状。