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专利摘要

一种改善纸张表面印刷适应性的涂层制备方法,它涉及纸张表面改性技术。
它要解决现有纸张表面涂布改性方法存在使用成分多、成本高、工艺复杂以及轻量化程度低的问题。
方法:将高分子靶材与铜靶一起磁控溅射在衬底材料表面上制备过渡层;高分子靶材和Ti靶的双靶共溅射,沉积TiO2/(CH)t复合涂层,即完成。
本发明采用高分子靶材与Ti靶共置于真空磁控等离子溅射腔体内,在Ar粒子轰击下实现纸张表面均匀致密的复合涂层沉积;制备过程无须使用抗水剂、荧光剂等助剂,工艺简便,易操作,明显改善了纸张表面的印刷适应性,且在纸张满足印刷适性要求下实现纸张更高程度的轻量化,具有重要的环保价值与社会意义。
本发明适用于纸张表面改性。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910962864.4
申请日
2019-10-11
公开日
2019-11-29
公开号
CN110512182A
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

朱琳 刘壮 郭新宇 秦冕 马国荣 杨国强

申请人

哈尔滨商业大学

申请人地址

150028 黑龙江省哈尔滨市松北区学海街1号

专利摘要

一种改善纸张表面印刷适应性的涂层制备方法,它涉及纸张表面改性技术。
它要解决现有纸张表面涂布改性方法存在使用成分多、成本高、工艺复杂以及轻量化程度低的问题。
方法:将高分子靶材与铜靶一起磁控溅射在衬底材料表面上制备过渡层;高分子靶材和Ti靶的双靶共溅射,沉积TiO2/(CH)t复合涂层,即完成。
本发明采用高分子靶材与Ti靶共置于真空磁控等离子溅射腔体内,在Ar粒子轰击下实现纸张表面均匀致密的复合涂层沉积;制备过程无须使用抗水剂、荧光剂等助剂,工艺简便,易操作,明显改善了纸张表面的印刷适应性,且在纸张满足印刷适性要求下实现纸张更高程度的轻量化,具有重要的环保价值与社会意义。
本发明适用于纸张表面改性。

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