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专利摘要

本发明提供表面处理装置和表面处理方法,能够恰到好处地进行直到基板上部的表面处理。
通过吊架(50)的夹紧件(52)夹住基板(54)的上端部而进行保持。
在吊架(50)所保持的基板(54)的两侧设置有作为处理液放出部的管(56)。
在该管(56)上以朝向斜上方放出处理液的方式设置有孔(58)。
所放出的处理液流过基板(54)的表面而到达下部,通过泵(60)来进行循环而再次从管(56)放出。

专利状态

基础信息

专利号
CN201710589796.2
申请日
2017-07-19
公开日
2021-07-13
公开号
CN107868949B
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

内海雅之 山本久光 星俊作 水本纯司

申请人

上村工业株式会社

申请人地址

日本大阪府

专利摘要

本发明提供表面处理装置和表面处理方法,能够恰到好处地进行直到基板上部的表面处理。
通过吊架(50)的夹紧件(52)夹住基板(54)的上端部而进行保持。
在吊架(50)所保持的基板(54)的两侧设置有作为处理液放出部的管(56)。
在该管(56)上以朝向斜上方放出处理液的方式设置有孔(58)。
所放出的处理液流过基板(54)的表面而到达下部,通过泵(60)来进行循环而再次从管(56)放出。

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