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专利摘要

本发明公开了一种用于引线框架的去毛刺液、其制备方法和应用。
本发明的去毛刺液组合物由下述原料制得,所述的原料包括下列质量分数的组分:5%‑50%的有机碱A、0.1%‑15%有机碱B、10%‑70%溶剂、0.01%‑50%还原剂、和水,各组分质量分数之和为100%,水补足余量;所述有机碱A为pKa在11以上的有机碱,所述有机碱B为pKa在7‑11的有机碱,所述的质量分数为各组分的质量占各组分的总质量的质量百分比。
本发明的去毛刺液组合物对tape胶和溢料具有去除效果,且可适用于不同基材的引线框架。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910281044.9
申请日
2019-04-09
公开日
2019-08-06
公开号
CN110093607A
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

王溯 蔡进

申请人

上海新阳半导体材料股份有限公司

申请人地址

201616 上海市松江区思贤路3600号

专利摘要

本发明公开了一种用于引线框架的去毛刺液、其制备方法和应用。
本发明的去毛刺液组合物由下述原料制得,所述的原料包括下列质量分数的组分:5%‑50%的有机碱A、0.1%‑15%有机碱B、10%‑70%溶剂、0.01%‑50%还原剂、和水,各组分质量分数之和为100%,水补足余量;所述有机碱A为pKa在11以上的有机碱,所述有机碱B为pKa在7‑11的有机碱,所述的质量分数为各组分的质量占各组分的总质量的质量百分比。
本发明的去毛刺液组合物对tape胶和溢料具有去除效果,且可适用于不同基材的引线框架。

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