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专利摘要

本发明的目的在于提供离子交换膜、离子交换膜的制造方法和电解槽,其在供至电解时能够降低电解电压。
本发明的离子交换膜具有包含具有离子交换基的含氟系聚合物的膜主体、和配置在上述膜主体的至少一个面上的被覆层,其中,上述被覆层包含无机物颗粒和粘结剂,相对于上述被覆层中上述无机物颗粒和粘结剂的总质量,上述粘结剂的质量比大于0.3且为0.9以下,上述被覆层的表面粗糙度为1.20μm以上。

专利状态

基础信息

专利号
CN201811540760.6
申请日
2018-12-17
公开日
2021-07-27
公开号
CN109989072B
主分类号
/C/C25/ 化学;冶金
标准类别
电解或电泳工艺;其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

冈本浩司 高桥和也

申请人

旭化成株式会社

申请人地址

日本东京都

专利摘要

本发明的目的在于提供离子交换膜、离子交换膜的制造方法和电解槽,其在供至电解时能够降低电解电压。
本发明的离子交换膜具有包含具有离子交换基的含氟系聚合物的膜主体、和配置在上述膜主体的至少一个面上的被覆层,其中,上述被覆层包含无机物颗粒和粘结剂,相对于上述被覆层中上述无机物颗粒和粘结剂的总质量,上述粘结剂的质量比大于0.3且为0.9以下,上述被覆层的表面粗糙度为1.20μm以上。

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