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专利摘要

本发明属于引线框架表面处理技术领域,具体涉及一种引线框架的电镀工艺。
一种引线框架的电镀工艺,采用上料→电解除油脱脂→清洗→酸洗→中和→清洗→预镀铜→清洗→镀铜→清洗→预镀银→清洗→局部镀银→银回收→退银→氰化清洗→防铜变色→清洗→烘干→下料等一系列的工艺实现了,在后期镀铜及镀银时可得到均匀的镀层,将经过银回收、退银后处理的将引线框架再置于氰化钾溶液中改善了镀银膜的焊接湿润性提高了芯片的焊接质量。

专利状态

基础信息

专利号
CN202011094392.4
申请日
2020-10-14
公开日
2021-01-05
公开号
CN112176377A
主分类号
/C/C25/ 化学;冶金
标准类别
电解或电泳工艺;其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

康亮 康小明 马文龙 孙飞鹏

申请人

天水华洋电子科技股份有限公司

申请人地址

741020 甘肃省天水市麦积区社棠工业园

专利摘要

本发明属于引线框架表面处理技术领域,具体涉及一种引线框架的电镀工艺。
一种引线框架的电镀工艺,采用上料→电解除油脱脂→清洗→酸洗→中和→清洗→预镀铜→清洗→镀铜→清洗→预镀银→清洗→局部镀银→银回收→退银→氰化清洗→防铜变色→清洗→烘干→下料等一系列的工艺实现了,在后期镀铜及镀银时可得到均匀的镀层,将经过银回收、退银后处理的将引线框架再置于氰化钾溶液中改善了镀银膜的焊接湿润性提高了芯片的焊接质量。

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