目录

专利摘要

本发明提供一种抗剥离电路板用铜箔及其制备方法,涉及电路板铜箔加工技术领域。
所述铜箔为先采用复合添加剂A混合制备基础铜箔,后将基础铜箔采用复合处理剂B处理表面得到,其中复合添加剂A由以下原料制成:聚乙二醇、胶原蛋白、2‑巯基苯并咪唑、硫脲、钨酸钠;所述复合处理剂B由以下原料制成:γ‑甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3‑(2,3‑环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酸缩水甘油酯、N‑(β‑氨乙基)‑γ‑氨丙基三甲氧基硅烷。
本发明克服了现有技术的不足,有效保证所制得铜箔具有优良的抗拉强度与延展性的同时,有效提升铜箔的抗剥离强度,增强铜箔的稳定性,提升其综合性能,适宜推广生产。

专利状态

基础信息

专利号
CN201911119044.5
申请日
2019-11-15
公开日
2021-01-05
公开号
CN110820021B
主分类号
/C/C25/ 化学;冶金
标准类别
电解或电泳工艺;其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

王罗海 张春雨 乔印虎 彭永友 陈又斌 国文年 汪全军

申请人

安徽德科科技有限公司

申请人地址

239001 安徽省滁州市开发区花园西路82号(高新技术创业服务中心1号楼4层401B室)

专利摘要

本发明提供一种抗剥离电路板用铜箔及其制备方法,涉及电路板铜箔加工技术领域。
所述铜箔为先采用复合添加剂A混合制备基础铜箔,后将基础铜箔采用复合处理剂B处理表面得到,其中复合添加剂A由以下原料制成:聚乙二醇、胶原蛋白、2‑巯基苯并咪唑、硫脲、钨酸钠;所述复合处理剂B由以下原料制成:γ‑甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3‑(2,3‑环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酸缩水甘油酯、N‑(β‑氨乙基)‑γ‑氨丙基三甲氧基硅烷。
本发明克服了现有技术的不足,有效保证所制得铜箔具有优良的抗拉强度与延展性的同时,有效提升铜箔的抗剥离强度,增强铜箔的稳定性,提升其综合性能,适宜推广生产。

相似专利技术