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专利摘要

提供了使用远程电流动态控制电镀均匀性的装置和方法。
在一个方面,用于在衬底上电镀金属同时控制电镀均匀性的装置包括:电镀室,其具有由膜分隔开的阳极电解液分室和阴极电解液分室;主阳极,其布置在阳极电解液分室中;离子阻性离子可渗透元件,其布置在膜和在阴极电解液分室中的衬底之间;和第二电极,其配置成贡献和/或转移电镀电流到衬底和/或从该衬底贡献和/或转移电镀电流,其中,第二电极被布置成使得贡献和/或转移的电镀电流不穿过分隔开阳极电解液分室和阴极电解液分室的膜,但穿过离子阻性离子可渗透元件。
在一些实施方式中,第二电极是能在电镀期间被动态控制的方位角对称阳极(例如,围绕电镀室的外周的单独分室布置的环)。

专利状态

基础信息

专利号
CN201810358910.5
申请日
2016-01-15
公开日
2020-12-01
公开号
CN108707940B
主分类号
/C/C25/ 化学;冶金
标准类别
电解或电泳工艺;其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

布哈努丁·卡加伊瓦拉 布莱恩·L·巴卡柳 史蒂文·T·迈耶 蔡李鹏 亚伦·贝尔克 詹姆斯·艾萨克·福特纳 罗伯特·拉什

申请人

朗姆研究公司

申请人地址

美国加利福尼亚州

专利摘要

提供了使用远程电流动态控制电镀均匀性的装置和方法。
在一个方面,用于在衬底上电镀金属同时控制电镀均匀性的装置包括:电镀室,其具有由膜分隔开的阳极电解液分室和阴极电解液分室;主阳极,其布置在阳极电解液分室中;离子阻性离子可渗透元件,其布置在膜和在阴极电解液分室中的衬底之间;和第二电极,其配置成贡献和/或转移电镀电流到衬底和/或从该衬底贡献和/或转移电镀电流,其中,第二电极被布置成使得贡献和/或转移的电镀电流不穿过分隔开阳极电解液分室和阴极电解液分室的膜,但穿过离子阻性离子可渗透元件。
在一些实施方式中,第二电极是能在电镀期间被动态控制的方位角对称阳极(例如,围绕电镀室的外周的单独分室布置的环)。

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