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专利摘要

本发明公开了一种玻璃基板清洗的方法,涉及玻璃基板生产技术领域。
本发明的主要技术方案为:一种玻璃基板清洗的方法,包括:采集所述颗粒检查设备、所述翻转设备、所述检查设备以及所述包装设备处的所述玻璃基板的堵片情况数据,并将堵片情况数据传输给所述处理设备;所述处理设备根据所述堵片情况数据采用预设运算方式,调节所述处理设备中比例积分微分控制器的调控系数;所述处理设备基于调节后的所述调控系数控制所述风刀设备中所述玻璃基板的传输速度。
所述方法解决了因玻璃基板长时间在风刀设备中停留而导致的玻璃基板质量问题。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910212734.9
申请日
2019-03-20
公开日
2021-02-26
公开号
CN109731877B
主分类号
/F/F26/ 机械工程;照明;加热;武器;爆破
标准类别
干燥
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

李青 李赫然 王演 徐志恒

申请人

东旭(营口)光电显示有限公司 东旭光电科技股份有限公司

申请人地址

115003 辽宁省营口市沿海产业基地新城大街19号

专利摘要

本发明公开了一种玻璃基板清洗的方法,涉及玻璃基板生产技术领域。
本发明的主要技术方案为:一种玻璃基板清洗的方法,包括:采集所述颗粒检查设备、所述翻转设备、所述检查设备以及所述包装设备处的所述玻璃基板的堵片情况数据,并将堵片情况数据传输给所述处理设备;所述处理设备根据所述堵片情况数据采用预设运算方式,调节所述处理设备中比例积分微分控制器的调控系数;所述处理设备基于调节后的所述调控系数控制所述风刀设备中所述玻璃基板的传输速度。
所述方法解决了因玻璃基板长时间在风刀设备中停留而导致的玻璃基板质量问题。

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