本发明属于光刻相关技术领域，其公开了一种套刻误差测量装置及其测量方法和优化方法，该装置包括：照明系统；设于照明系统光路上的起偏臂，起偏臂沿光路依次包括起偏器、第一相位延迟器、第二相位延迟器以及第一透镜组；与起偏臂沿待测套刻样件表面的法线对称设置的检偏臂，检偏臂沿光路依次包括第二透镜组、第三相位延迟器、第四相位延迟器以及检偏器；设于检偏臂光路上的探测系统，探测系统将检偏臂解调的光束会聚并将光束发送至数据处理系统，数据处理系统将光束转化为穆勒矩阵，并根据穆勒矩阵获得套刻误差。
本申请待测套刻样件的套刻标记周期不受限制、测量速度快、测量结果不受运动器件的干扰，测量准确度高，鲁棒性好，适用范围广。

刘世元 王鹏 陈修国 张劲松 石雅婷

华中科技大学

430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

本发明属于光刻相关技术领域，其公开了一种套刻误差测量装置及其测量方法和优化方法，该装置包括：照明系统；设于照明系统光路上的起偏臂，起偏臂沿光路依次包括起偏器、第一相位延迟器、第二相位延迟器以及第一透镜组；与起偏臂沿待测套刻样件表面的法线对称设置的检偏臂，检偏臂沿光路依次包括第二透镜组、第三相位延迟器、第四相位延迟器以及检偏器；设于检偏臂光路上的探测系统，探测系统将检偏臂解调的光束会聚并将光束发送至数据处理系统，数据处理系统将光束转化为穆勒矩阵，并根据穆勒矩阵获得套刻误差。
本申请待测套刻样件的套刻标记周期不受限制、测量速度快、测量结果不受运动器件的干扰，测量准确度高，鲁棒性好，适用范围广。