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专利摘要

本发明公开了一种自组装模型的制备方法,包括:提供有机光致异构化分子溶液,包括溶剂和溶解于所述溶剂中的有机光致异构化分子,所述有机光致异构化分子在第一波长范围的紫外光照射下能够转变为第一结构,在第二波长范围的可见光照射下能够转变为第二结构,所述有机光致异构化分子在分别处于所述第一结构与处于所述第二结构时具有不同的摩擦系数;将所述有机光致异构化分子溶液滴加至高定向热解石墨基底的表面;以及静置至将所述有机光致异构化分子溶液中的所述溶剂挥发,使所述有机光致异构化分子溶液在所述高定向热解石墨基底上自组装形成自组装膜。
本发明还公开了一种自组装模型。
本发明还公开了一种可光调控摩擦系数薄膜的自组装方法。

专利状态

基础信息

专利号
CN201911405315.3
申请日
2019-12-30
公开日
2021-06-22
公开号
CN111122431B
主分类号
/G/G01/ 物理
标准类别
测量;测试
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

马丽然 薛单单 温诗铸 雒建斌

申请人

清华大学

申请人地址

100084 北京市海淀区清华园1号

专利摘要

本发明公开了一种自组装模型的制备方法,包括:提供有机光致异构化分子溶液,包括溶剂和溶解于所述溶剂中的有机光致异构化分子,所述有机光致异构化分子在第一波长范围的紫外光照射下能够转变为第一结构,在第二波长范围的可见光照射下能够转变为第二结构,所述有机光致异构化分子在分别处于所述第一结构与处于所述第二结构时具有不同的摩擦系数;将所述有机光致异构化分子溶液滴加至高定向热解石墨基底的表面;以及静置至将所述有机光致异构化分子溶液中的所述溶剂挥发,使所述有机光致异构化分子溶液在所述高定向热解石墨基底上自组装形成自组装膜。
本发明还公开了一种自组装模型。
本发明还公开了一种可光调控摩擦系数薄膜的自组装方法。

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