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专利摘要

本发明公开了一种离子束刻蚀系统的真空测量工具的保护装置,所述离子束刻蚀系统包括反应腔体和用于测量反应腔体的内部真空度的真空测量工具,所述反应腔体壁上设置有通气接口,所述真空测量工具连接在通气接口上;所述保护装置包括塞在通气接口内的金属颗粒吸附块,还包括设置在金属颗粒吸附块外壁与通气接口之间的卡环;所述卡环上开设有若干通气孔。
本发明通过金属颗粒吸附块和卡环,阻隔了固体颗粒和离子束经通气接口进入真空测量工具;卡环上设置有若干通气孔,保证真空测量工具和反应腔体通气。
同时强磁铁材质的金属颗粒吸附块可吸附金属颗粒,保证了金属颗粒不会经通气孔穿过。
本发明通过法兰安装固定,便于拆装清洗维修。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910469599.6
申请日
2019-05-31
公开日
2019-09-03
公开号
CN110197784A
主分类号
/H/H01/ 电学
标准类别
基本电气元件
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

李娜 冯伟群 胡冬冬 程实然 陈兆超 侯永刚 王铖熠 许开东

申请人

江苏鲁汶仪器有限公司

申请人地址

221300 江苏省徐州市邳州经济开发区辽河西路8号

专利摘要

本发明公开了一种离子束刻蚀系统的真空测量工具的保护装置,所述离子束刻蚀系统包括反应腔体和用于测量反应腔体的内部真空度的真空测量工具,所述反应腔体壁上设置有通气接口,所述真空测量工具连接在通气接口上;所述保护装置包括塞在通气接口内的金属颗粒吸附块,还包括设置在金属颗粒吸附块外壁与通气接口之间的卡环;所述卡环上开设有若干通气孔。
本发明通过金属颗粒吸附块和卡环,阻隔了固体颗粒和离子束经通气接口进入真空测量工具;卡环上设置有若干通气孔,保证真空测量工具和反应腔体通气。
同时强磁铁材质的金属颗粒吸附块可吸附金属颗粒,保证了金属颗粒不会经通气孔穿过。
本发明通过法兰安装固定,便于拆装清洗维修。

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