本发明公开了一种离子束刻蚀用双层挡板,设置在位于离子源与晶圆之间的刻蚀反应腔体内,用于阻挡离子源射向晶圆的离子束;双层挡板包括平行并列设置且能同步转动的前挡板和后挡板,其中,前挡板邻近离子源的栅格网,后挡板邻近晶圆;前挡板和后挡板的面积均大于格栅网的面积;前挡板上设置有若干个贯通的溅射网孔。
前挡板上溅射网孔的Z向纵截面为长条形、圆形、正方形、三角形、椭圆形、多边形或同心环形中的一种或组合。
本发明采用两层挡板的设计,能减少所有可能会溅射进离子源内部的导电材料,保护了离子源不受伤害。
李娜 胡冬冬 车东晨 陈兆超 侯永刚 程实然 王铖熠 许开东
江苏鲁汶仪器有限公司
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本发明公开了一种离子束刻蚀用双层挡板,设置在位于离子源与晶圆之间的刻蚀反应腔体内,用于阻挡离子源射向晶圆的离子束;双层挡板包括平行并列设置且能同步转动的前挡板和后挡板,其中,前挡板邻近离子源的栅格网,后挡板邻近晶圆;前挡板和后挡板的面积均大于格栅网的面积;前挡板上设置有若干个贯通的溅射网孔。
前挡板上溅射网孔的Z向纵截面为长条形、圆形、正方形、三角形、椭圆形、多边形或同心环形中的一种或组合。
本发明采用两层挡板的设计,能减少所有可能会溅射进离子源内部的导电材料,保护了离子源不受伤害。