本发明公开了一种提升磷化铟中锌掺杂浓度的方法,属于半导体材料技术领域。
一种提升磷化铟中锌掺杂浓度的方法,包括在完成锌扩散的磷化铟表面生长ZnSe层,之后进行退火处理,并除去ZnSe层。
本发明设置的ZnSe层,在退火处理过程中,阻碍了Zn
黄辉廉 黄珊珊 张小宾 黄彦泽 杨文奕
中山德华芯片技术有限公司
528437 广东省中山市火炬开发区火炬路22号之二第3-4层
本发明公开了一种提升磷化铟中锌掺杂浓度的方法,属于半导体材料技术领域。
一种提升磷化铟中锌掺杂浓度的方法,包括在完成锌扩散的磷化铟表面生长ZnSe层,之后进行退火处理,并除去ZnSe层。
本发明设置的ZnSe层,在退火处理过程中,阻碍了Zn