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一种Cr-Si-N-O太阳能选择性吸收涂层及其制备方法

申请号: CN201811081750.0
申请人: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
申请日期: 2018年9月17日

摘要文本

本发明提供一种Cr‑Si‑N‑O太阳能选择性吸收涂层及其制备方法。所述涂层从底层到表面依次包括基片、红外反射层、吸收层和减反层,所述吸收层包括第一亚层、第二亚层和第三亚层,所述第一亚层与红外反射层接触,所述第三亚层与减反层接触;所述第一亚层、第二亚层的材料为CrSiN;所述第三亚层的材料为CrSiNO;所述第一亚层中,其CrSi的含量大于N的含量;所述的第二亚层中,其CrSi的含量小于等于N的含量。所述涂层能够提高太阳能选择性吸收涂层的热稳定性;所述的涂层经400℃大气环境或者500℃真空环境(3.0x10‑3pa)退火2h处理之后,其吸收率均大于0.95,发射率均小于等于0.08(80℃)。 (来 自 马 克 数 据 网)

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种Cr-Si-N-O太阳能选择性吸收涂层及其制备方法
专利类型 发明授权
申请号 CN201811081750.0
申请日 2018年9月17日
公告号 CN109341116B
公开日 2024年2月13日
IPC主分类号 F24S70/225
权利人 中国建筑材料科学研究总院有限公司
发明人 杨中周; 刘静; 孙志强; 余刚; 汪洪
地址 北京市朝阳区管庄东里1号

专利主权项内容

1.一种Cr-Si-N-O太阳能选择性吸收涂层,所述的涂层从底层到表面依次包括基片、红外反射层、吸收层和减反层,所述的吸收层包括第一亚层、第二亚层和第三亚层,所述的第一亚层与红外反射层接触,所述的第三亚层与减反层接触,其特征在于:所述的第一亚层、第二亚层的材料为CrSiN;所述的第三亚层的材料为CrSiNO;所述吸收层的靶材为CrSi靶材,其中,Cr和Si的原子个数比为7 : 3。