← 返回列表
掩膜板及其制作方法、显示基板及其封装方法、显示装置
摘要文本
本发明公开一种掩膜板及其制作方法、显示基板及其封装方法、显示装置，涉及掩膜板技术领域，为解决在对显示器件封装的过程中，由于产生的Under Coating的厚度较厚，导致显示器件的封装效果受到影响的问题。所述掩膜板，包括掩膜框架和设置在所述掩膜框架上的多个掩膜条，所述掩膜条包括沿第一方向延伸的第一掩膜条和沿第二方向延伸的第二掩膜条，所述第一掩膜条和第二掩膜条交叉设置并限定出多个开口区，所述开口区用于形成膜层图案；所述掩膜条朝向待形成的膜层一侧上设置有凸起的挡块结构。本发明提供的掩膜板用于封装显示器件。。来自：马 克 团 队
申请人信息
- 申请人:京东方科技集团股份有限公司; 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 发明人: 京东方科技集团股份有限公司; 成都京东方光电科技有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 掩膜板及其制作方法、显示基板及其封装方法、显示装置 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN201810393022.7 |
| 申请日 | 2018年4月27日 |
| 公告号 | CN108598281B |
| 公开日 | 2024年3月15日 |
| IPC主分类号 | H10K50/844 |
| 权利人 | 京东方科技集团股份有限公司; 成都京东方光电科技有限公司 |
| 发明人 | 王世龙; 蒋志亮; 宋丽 |
| 地址 | 北京市朝阳区酒仙桥路10号; 四川省成都市高新区(西区)合作路1188号 |
专利主权项内容
1.一种掩膜板，包括掩膜框架和设置在所述掩膜框架上的多个掩膜条，所述掩膜条包括沿第一方向延伸的第一掩膜条和沿第二方向延伸的第二掩膜条，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条交叉设置并限定出多个开口区，所述开口区用于形成膜层图案；其特征在于，所述掩膜条朝向待形成的膜层一侧设置有凸起的挡块结构。