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余辉检测装置和余辉检测方法

申请号: CN201810437201.6
申请人: 同方威视技术股份有限公司
申请日期: 2018年5月9日

摘要文本

本发明公开了一种余辉检测装置和余辉检测方法。余辉检测装置包括:X射线管;第一读出电路,用于与被检测探测器连接,检测时被检测探测器接受X射线束辐射,并向第一读出电路输出第一探测信号,第一读出电路根据第一探测信号形成并输出第一测量信号;残余射线探测器;第二读出电路,与残余射线探测器连接,残余射线探测器接受X射线束辐射并向第二读出电路输出第二探测信号,第二读出电路根据第二探测信号形成并输出第二测量信号;计算装置,与第一读出电路和第二读出电路分别信号连接并根据关断X射线管的电源后的第一测量信号和第二测量信号计算并输出余辉检测信号。本发明具有简便、可靠的优点。 关注微信公众号马克数据网

专利详细信息

项目 内容
专利名称 余辉检测装置和余辉检测方法
专利类型 发明授权
申请号 CN201810437201.6
申请日 2018年5月9日
公告号 CN108535770B
公开日 2024年1月2日
IPC主分类号 G01T7/00
权利人 同方威视技术股份有限公司
发明人 李树伟; 张文剑; 邹湘; 赵博震; 张清军; 何会绍; 王永强; 王燕春
地址 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层

专利主权项内容

1.一种余辉检测装置,其特征在于,包括:X射线管(1),用于发射X射线束;第一读出电路(3),用于与被检测探测器(10)连接,检测时所述被检测探测器(10)设置于所述X射线管(1)的出束侧以接受所述X射线束辐射,并向所述第一读出电路(3)输出第一探测信号,所述第一读出电路(3)根据所述第一探测信号形成并输出第一测量信号;残余射线探测器(2),设置于所述X射线管(1)的出束侧;第二读出电路(4),与所述残余射线探测器(2)连接,所述残余射线探测器(2)接受所述X射线束辐射并向所述第二读出电路(4)输出第二探测信号,所述第二读出电路(4)根据所述第二探测信号形成并输出第二测量信号;计算装置(5),与所述第一读出电路(3)和所述第二读出电路(4)分别信号连接以接收所述第一测量信号和所述第二测量信号,所述计算装置(5)根据关断所述X射线管(1)的电源后的所述第一测量信号和所述第二测量信号计算并输出余辉检测信号。