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放射源设备
摘要文本
本发明实施例提供一种放射源设备。上述放射源设备包括一腔室、一标靶液滴产生器、一排气模块、一测量装置以及一控制器。标靶液滴产生器配置以提供多个标靶液滴至腔室。排气模块配置以根据一第一气体流量而将对应于上述标靶液滴的碎屑抽出上述腔室。测量装置配置以测量在腔室中碎屑的浓度。控制器耦接于测量装置与排气模块，并配置以根据碎屑的所测量的浓度而调整第一气体流量。
申请人信息
- 申请人:台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址:中国台湾新竹市
- 发明人: 台湾积体电路制造股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 放射源设备 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN201811094242.6 |
| 申请日 | 2018年9月19日 |
| 公告号 | CN109581819B |
| 公开日 | 2024年3月22日 |
| IPC主分类号 | G03F7/20 |
| 权利人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 发明人 | 杨基; 陈思妤; 简上杰; 谢劼; 傅中其; 刘柏村; 陈立锐; 郑博中 |
| 地址 | 中国台湾新竹市 |
专利主权项内容
1.一种放射源设备，包括：一腔室；一标靶液滴产生器，配置以提供多个标靶液滴至上述腔室；一排气模块，配置以根据一第一气体流量而将对应于上述标靶液滴的碎屑抽出上述腔室；一气体供应模块，配置以根据一第二气体流量而提供一气体至上述腔室；一测量装置，配置以测量在上述腔室中上述碎屑的浓度；以及一控制器，耦接于上述测量装置与上述排气模块以及上述气体供应模块，并配置以根据上述碎屑的所测量的上述浓度而调整上述第一气体流量与上述第二气体流量，其中上述排气模块的上述第一气体流量是同步于上述气体供应模块的上述第二气体流量，其中当所测量的上述碎屑的浓度超过一上临界值时，上述控制器配置以增加上述第一气体流量与上述气体供应模块的上述第二气体流量，直到所测量的上述碎屑的浓度是低于一下临界值。