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半导体元件
摘要文本
本发明公开一种半导体元件,其主要包含一第一栅极线以及一第二栅极线沿着一第一方向延伸、一第三栅极线沿着一第二方向延伸并设于第一栅极线以及第二栅极线之间以及一漏极区域设于第三栅极线一侧,其中第三栅极线包含一第一突出部且该第一突出部重叠漏极区域。
申请人信息
- 申请人:联华电子股份有限公司
- 申请人地址:中国台湾新竹市
- 发明人: 联华电子股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 半导体元件 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN202110265888.1 |
| 申请日 | 2018年1月15日 |
| 公告号 | CN112968057B |
| 公开日 | 2024年2月13日 |
| IPC主分类号 | H01L29/423 |
| 权利人 | 联华电子股份有限公司 |
| 发明人 | 马瑞吉; 林家辉; 杨国裕 |
| 地址 | 中国台湾新竹市 |
专利主权项内容
1.一种半导体元件,其特征在于,包含:第一栅极线以及第二栅极线,沿着第一方向延伸;第三栅极线,沿着第二方向延伸并设于该第一栅极线以及该第二栅极线之间,其中该第三栅极线包含第一突出部;第四栅极线,沿着第二方向延伸并设于该第一栅极线以及该第二栅极线之间,其中该第四栅极线包含第二突出部,所述第二突出部朝向所述第一突出部突出,第一突出部与第二突出部为对称结构,第一突出部沿着第一方向延伸的第一边与第二边分别切齐第二突出部沿着第一方向延伸的第一边与第二边,且第一栅极线与第二栅极线由第三栅极线一侧沿着第一方向不间断延伸至第四栅极线另一侧;以及漏极区域,设于该第三栅极线和第四栅极线之间,其中该第三栅极线的该第一突出部以及该第四栅极线的第二突出部重叠该漏极区域;且所述第一突出部和第二突出部在第一方向上间隔开。