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用于射束整形体的屏蔽装置
摘要文本
本发明提供了一种用于射束整形体的屏蔽装置，所述屏蔽装置包括屏蔽体，密闭空间，该密闭空间包围射束整形体中能产生的有害物质的构件，以防止所述有害物质逸出该密闭空间；所述屏蔽装置还包括负压装置和有害物质收集装置以进一步抑制有害物质逸出；为了防止屏蔽装置对射束整形体中超热中子射束的影响，屏蔽体的厚度采用5mm以下的铅单质或铋单质。本发明提供的技术方案的有益效果是在最小限度地影响超热中子射束的情况下有效抑制射束整形体内的有害物质逸出。
申请人信息
- 申请人:南京中硼联康医疗科技有限公司
- 申请人地址:211112 江苏省南京市江宁区江宁科学园龙眠大道568号
- 发明人: 南京中硼联康医疗科技有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 用于射束整形体的屏蔽装置 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN201610184278.8 |
| 申请日 | 2016年3月28日 |
| 公告号 | CN107240430B |
| 公开日 | 2024年3月22日 |
| IPC主分类号 | G21F3/00 |
| 权利人 | 南京中硼联康医疗科技有限公司 |
| 发明人 | 刘渊豪 |
| 地址 | 江苏省南京市江宁区江宁科学园龙眠大道568号 |
专利主权项内容
1.一种用于射束整形体的屏蔽装置，所述射束整形体用于将从中子产生装置中产生的中子能谱调整到预设能谱，所述射束整形体内产生有害物质，其特征在于，所述屏蔽装置包括屏蔽体和至少一部分由所述屏蔽体构成的密闭空间，所述屏蔽体至少一部分容纳在所述射束整形体内，或所述屏蔽体至少包围一部分所述射束整形体，其中，所述密闭空间用于容纳有害物质并防止所述有害物质扩散出所述密闭空间，所述屏蔽装置包括负压装置和有害物质收集装置，其中，所述负压装置和所述屏蔽体连接，用以使所述密闭空间保持负压状态；所述有害物质收集装置和所述负压装置连接，用于收集和/或处理所述密闭空间的有害物质。