交变电场辅助光学元件表面刻蚀处理装置及处理方法

专利主权项内容

1.一种交变电场辅助光学元件表面刻蚀处理装置进行刻蚀处理的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、将储液槽放置在底板导轨上，通过位置控制单元将平行电极板放置在储液槽内，且使平行电极板之间的间距为5~15cm; 步骤二、将提拉臂的一端通过升降单元连接在第一丝杠的第一滑块上，通过控制第一伺服电机带动第一丝杆转动进而控制提拉臂沿横臂梁移动至储液槽上方，将连接光学元件连接在提拉臂的另一端，然后通过升降单元将待处理光学元件移动至储液槽内的平行电极板之间；通过控制第一伺服电机对待处理熔石英光学元件的左右位置进行调整；在储液槽内注入刻蚀液；步骤三、接通电源开关，通过交变电源使平行电极板间产生交变电场，同时开始光学元件表面蚀刻处理过程；待表面蚀刻处理过程进行到一定程度后，断开电源开关，通过升降单元将光学元件提升至储液槽液面上方，结束表面蚀刻处理过程；所述步骤三中，所述交变电源的交变电流频率为1000Hz~1MHz，电流为1~20A，电压为220~360V；表面蚀刻处理过程的时间为0.5~24h；所述蚀刻溶液为氢氟酸溶液或氢氧化钠溶液；所述交变电场辅助光学元件表面刻蚀处理装置，包括：支撑架，其底部连接有底板；所述底板上设置有底板导轨；横臂梁，其连接在支撑架的顶部并与支撑架垂直；所述横臂梁上设置有导槽，所述导槽内设置有第一丝杆；提拉臂，其一端连接待处理光学元件，另一端通过升降单元连接在第一丝杠的第一滑块上，所述第一丝杠连接第一伺服电机以带动第一丝杆转动进而控制提拉臂沿横臂梁移动；储液槽，其内放置刻蚀液；所述储液槽的底部设置有可锁止的万向轮；所述万向轮可滑动连接在底板导轨上；平行电极板，其通过位置控制单元放置在储液槽内，且使待处理熔石英光学元件位于平行电极板之间；交变电源，其通过电源开关和导线与平行电极板连接；其中，待处理光学元件连接在提拉臂上，通过控制第一伺服电机将待处理光学元件移动至储液槽上方，然后通过升降单元将待处理光学元件移动至储液槽内的平行电极板之间；所述提拉臂为硬质空心连杆，所述升降单元包括连接在第一滑块上的第二伺服电机和与第二伺服电机连接的第二丝杆，所述硬质空心连杆的一端连接在第二丝杆的第二滑块上；所述提拉臂的末端设置有用于连接待处理熔石英光学元件的夹持件；所述夹持件表面涂覆抗酸碱腐蚀的涂层；所述储液槽的外壁下端配置截流止回阀；所述储液槽的内壁上涂覆抗酸碱腐蚀的涂层；所述位置控制单元的结构包括：U型架，其支臂上通过夹具套设平行电极板；所述U型架的支臂为螺纹杆，所述螺纹杆上设置用于平行电极板限位的螺母；所述夹具表面涂覆抗酸碱腐蚀的涂层；所述平行电极板上涂覆抗酸碱腐蚀的涂层。