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光学元件位相型缺陷测量装置及检测方法
摘要文本
一种光学元件位相型缺陷测量装置及检测方法。该装置包括：光源，沿光源的光束传播方向依次放置样品台、显微放大系统、分光系统和探测系统。本发明具有装置简单、成本低、操作方便等优点，可测量光学元件位相型缺陷。
申请人信息
- 申请人:中国工程物理研究院激光聚变研究中心
- 申请人地址:621900 四川省绵阳市绵山路64号
- 发明人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 光学元件位相型缺陷测量装置及检测方法 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN201810964806.0 |
| 申请日 | 2018年8月23日 |
| 公告号 | CN108802056B |
| 公开日 | 2024年2月6日 |
| IPC主分类号 | G01N21/88 |
| 权利人 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 发明人 | 李杰; 许乔; 李亚国; 巴荣声; 张霖; 周信达; 郑垠波; 丁磊; 柴立群 |
| 地址 | 四川省绵阳市绵山路64号 |
专利主权项内容
1.一种光学元件位相型缺陷测量装置，其特征在于包括激光光源(1)，沿该激光光源(1)光束的传播方向依次是样品台(2)、显微放大系统(3)、分光系统(4)和探测系统(5)；所述的激光光源(1)提供准平行光；所述的样品台(2)供待测光学元件(6)置放及其位置及角度调节，使所述的待测光学元件(6)处于所述的显微放大系统(3)的物方视场上；所述的显微放大系统(3)用于放大待测光学元件(6)的测试区域；所述的分光系统(4)包括光栅(401)，所述的光栅(401)置于光栅位移控制台(402)上并处于所述的显微放大系统(3)和探测系统(5)之间；所述的探测系统(5)包括探测器(501)，所述的探测器(501)置于探测器位移控制台(502)上并处于所述的分光系统(4)后方；所述的显微放大系统(3)是由放大倍率不同的物镜和目镜组成，圆形光源照明时，其物方分辨率R由激光光源(1)的波长λ和物镜的数值孔径NA按下式确定，R＝0.61λ/NA；oo所述的光栅(401)的周期为T，光栅(401)与探测器(501)之间的距离为z，横向平移量S由下列公式确定：S＝λz/T。