一种用于冷却介质以及半导体激光器的制冷方法及系统

专利主权项内容

1.一种用于冷却介质的制冷方法，其特征在于，所述冷却介质用于为半导体激光器制冷，所述方法包括：预先将制冷物质注入储气装置，将冷却介质注入储液装置；所述制冷物质包括：压缩气体、或液态气体；所述储液装置包括第一储液装置，所述第一储液装置上设置有第一排气口，所述储气装置通过第一阀门与所述第一储液装置连通；将所述第一储液装置上的第一排气口设置为打开状态，所述制冷物质在导入所述第一储液装置后，在所述第一储液装置中吸热膨胀，使得所述第一储液装置中的冷却介质连续冷却，膨胀后的制冷物质经所述第一排气口排出。