← 返回列表

一种优化化学镀金析出的ITO走线设计方法

申请号: CN201510386929.7
申请人: 湖州胜僖电子科技有限公司
申请日期: 2015年7月6日

摘要文本

本发明涉及电容式触摸屏走线设计,尤其涉及一种化学镀金析出的ITO走线优化设计方法。优化化学镀金析出的ITO走线设计方法,包括ITO玻璃的待镀金部分和不镀金部分,所述待镀金部分和不镀金的驱动区蚀刻有走线,所述不镀金的驱动区覆盖有镀金保护膜,之后通过化学镀金工艺对每块触控玻璃的走线进行镀金;其在镀金不容易析出的地方附近区域且位于所述ITO玻璃上的非走线部分设置独立的镀金处理诱导件;所述镀金不容易析出的地方为镀金处理面积小的区域;所述独立的镀金处理诱导件为设置在所述ITO玻璃上的独立的ITO图形。本发明镀金结构使镀金更容易析出,且镀金厚度更均匀,电容式触摸屏产品稳定性和传输信号能力更好。。来自马-克-数-据-官网

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种优化化学镀金析出的ITO走线设计方法
专利类型 发明授权
申请号 CN201510386929.7
申请日 2015年7月6日
公告号 CN106325629B
公开日 2024年1月2日
IPC主分类号 G06F3/044
权利人 湖州胜僖电子科技有限公司
发明人 胜本宪三; 榎本悠一
地址 浙江省湖州市湖州经济技术开发区腊山路398号4幢

专利主权项内容

1.一种优化化学镀金析出的ITO走线设计方法,包括ITO玻璃的待镀金部分和不镀金部分,所述待镀金部分和不镀金的驱动区蚀刻有走线,所述不镀金的驱动区覆盖有镀金保护膜,之后通过化学镀金工艺对每块触控玻璃的走线进行镀金;其特征在于:在镀金不容易析出的地方附近区域且位于所述ITO玻璃上的非走线部分设置独立的镀金诱导件;所述镀金不容易析出的地方为镀金处理面积小的区域;所述独立的镀金诱导件为设置在所述ITO玻璃上的独立的ITO图形;所述独立的镀金诱导件为独立浮岛结构的ITO图形。 该数据由<马克数据网>整理