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阵列基板、显示装置及制备方法

申请号: CN201610352949.7
申请人: 京东方科技集团股份有限公司; 北京京东方显示技术有限公司
申请日期: 2016年5月25日

摘要文本

本公开的实施例公开了一种阵列基板、显示装置及制备方法。阵列基板包括衬底基板以及设置于所述衬底基板上的像素阵列结构,其中,所述像素阵列结构包括源漏金属层图案,所述源漏金属层图案包括薄膜晶体管的源极及漏极和数据线;所述源漏金属层图案远离所述衬底基板的表面至少部分设置有遮光材料。该阵列基板可以避免显示装置发生漏光,提高显示装置的开口率。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 阵列基板、显示装置及制备方法
专利类型 发明授权
申请号 CN201610352949.7
申请日 2016年5月25日
公告号 CN105842904B
公开日 2024年2月6日
IPC主分类号 G02F1/1335
权利人 京东方科技集团股份有限公司; 北京京东方显示技术有限公司
发明人 王守坤; 郭会斌; 冯玉春; 李梁梁; 刘正
地址 北京市朝阳区酒仙桥路10号; 北京市大兴区北京经济技术开发区经海一路118号

专利主权项内容

1.一种阵列基板,包括衬底基板以及设置于所述衬底基板上的像素阵列结构,其中,所述像素阵列结构包括源漏金属层图案和栅金属层图案,所述源漏金属层图案包括薄膜晶体管的源极及漏极和数据线;所述源漏金属层图案远离所述衬底基板的表面设置有第一遮光材料,所述栅金属层图案远离所述衬底基板的表面设置有第二遮光材料;所述第一遮光材料与所述第二遮光材料彼此间隔设置;所述第一遮光材料的图案的边缘与所述源漏金属层图案的边缘在所述衬底基板的厚度方向上彼此重合,所述第二遮光材料的图案与所述栅金属层图案在所述衬底基板的厚度方向上彼此重合;所述源漏金属层图案靠近所述衬底基板的表面设置有第三遮光材料,所述栅金属层图案靠近所述衬底基板的表面设置有第四遮光材料;所述第一遮光材料、所述第二遮光材料、所述第三遮光材料和所述第四遮光材料均为氧化钼。