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电路拓扑结构的生成方法及生成装置
摘要文本
本申请公开了一种自动生成新的电路拓扑结构的方法及装置，该生成方法包括：选定需要的电路元器件类型及个数；根据所选元器件随机生成电路网表和拓扑结构，以获得第一电路特征值，根据大量电路统计规律得出判定准则，作为第二电路特征值；将所述第一电路特征值与所述第二电路特征值进行对比；以及对合法电路进行尺寸优化。本申请的新的电路拓扑结构的生成方法及装置可以自动生成新的电路拓扑结构并进行合法性判断，为工程师分担了大量的设计和验证工作，可以更快更多地开发新电路并投入生产。
申请人信息
- 申请人:珠海泓芯科技有限公司
- 申请人地址:519080 广东省珠海市高新区大学路清华科技园A座0222号
- 发明人: 珠海泓芯科技有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 电路拓扑结构的生成方法及生成装置 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN201710726284.6 |
| 申请日 | 2017年8月22日 |
| 公告号 | CN107526888B |
| 公开日 | 2024年2月20日 |
| IPC主分类号 | G06F30/327 |
| 权利人 | 珠海泓芯科技有限公司 |
| 发明人 | 马亮; 李迪; 刘大海; 张登军; 安友伟; 余作欢 |
| 地址 | 广东省珠海市高新区大学路清华科技园A座0222号 |
专利主权项内容
1.一种电路拓扑结构的生成方法，包括：选定需要的电路元器件类型及个数；根据所选元器件随机生成电路网表和拓扑结构，以获得电路的第一电路特征值，根据大量电路统计整体适用的电路特征得出判定准则，作为第二电路特征值；将所述第一电路特征值与所述第二电路特征值进行对比；以及对合法电路进行尺寸优化，其中，所述根据大量电路统计整体使用的电路特征得出判定准则的步骤包括：收集电路图；由计算机识别所述电路图以获得相应的电路网表；根据所述电路网表统计拓扑学指标，所述拓扑学指标包括所述电路图中输入端节点、输出端节点、总结点、元器件种类以及元器件个数；根据所述拓扑学指标学习统计规律以获得各所述电路图整体适用的电路特征作为所述判定准则。