一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备及方法
摘要文本
本发明公开一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备及方法,其设备包括依次连接的放卷室、离子处理室、多个镀膜室和收卷室,离子处理室和多个镀膜室沿镀膜水冷辊的外周进行分布,放卷室和收卷室分别设于镀膜水冷辊的两侧;多个镀膜室中,位于中部的镀膜室中设置连续式蒸发镀膜源,其余各镀膜室中设置中频磁控靶。其方法是柔性基材完成离子处理后,沿镀膜水冷辊的转动依次送入各个镀膜室中,先由中频磁控靶对柔性基材表面进行至少一次溅射镀膜,然后通过连续式蒸发镀膜源对柔性基材进行蒸发镀膜,再由中频磁控靶对柔性基材表面进行至少一次溅射镀膜,最后送出。本发明可实现柔性基材表面厚膜层的镀制,镀膜效率高,膜层表面均匀性也高。
申请人信息
- 申请人:肇庆市科润真空设备有限公司
- 申请人地址:526060 广东省肇庆市端州大道
- 发明人: 肇庆市科润真空设备有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备及方法 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN201710657221.X |
| 申请日 | 2017年8月3日 |
| 公告号 | CN107236933B |
| 公开日 | 2024年2月2日 |
| IPC主分类号 | C23C14/26 |
| 权利人 | 肇庆市科润真空设备有限公司 |
| 发明人 | 朱建明 |
| 地址 | 广东省肇庆市端州大道 |
专利主权项内容
1.一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备,其特征在于,沿柔性基材的输送方向,包括依次连接的放卷室、离子处理室、多个镀膜室和收卷室,离子处理室和多个镀膜室沿镀膜水冷辊的外周进行分布,放卷室和收卷室分别设于镀膜水冷辊的两侧;多个镀膜室中,位于中部的镀膜室中设置连续式蒸发镀膜源,其余各镀膜室中设置中频磁控靶;连续式蒸发镀膜源包括蒸发器、蒸发器挡板和镀料丝供料机构,蒸发器设于镀膜室底部,蒸发器的开口朝向柔性基材的表面,蒸发器挡板设于蒸发器的开口上方,镀料丝供料机构设于蒸发器的一侧,镀料丝供料机构向蒸发器中供应镀料丝;所述蒸发器包括蒸发源水冷座、蒸发源输入电极、蒸发舟、蒸发电极绝缘套和电极冷却水接咀,蒸发源水冷座为上部开口的箱体状结构,蒸发舟设于蒸发源水冷座内,蒸发舟底部设置蒸发源输入电极,蒸发源输入电极内设有冷却通道,冷却通道的入口处设有电极冷却水接咀,蒸发源输入电极与镀膜室外壁的相接处设有蒸发电极绝缘套;所述镀料丝供料机构包括镀料丝卷盘、送丝轮和送丝咀,镀料丝缠绕于镀料丝卷盘上,镀料丝卷盘的输出端设置送丝轮,送丝咀安装于蒸发源水冷座上,镀料丝沿送丝轮输出后,通过送丝咀送入蒸发源水冷座中;所述离子处理室中设有冷阴极线性离子源,冷阴极线性离子源包括冷阴极离子源座、气体接咀、磁铁、阴极、阴极绝缘套、辅助阳极、阳极绝缘套和栅板组件;冷阴极离子源座为上部开口的箱体状结构,气体接咀贯穿于冷阴极离子源座的底部,位于气体接咀外周的冷阴极离子源座底面设有磁体,阴极设于气体接咀的上端,气体接咀与冷阴极离子源座的连接处设有阴极绝缘套,位于阴极上方的冷阴极离子源座内壁设有辅助阳极,辅助阳极与冷阴极离子源座的连接处设有阳极绝缘套;冷阴极离子源座顶部设有栅板组件;所述放卷室与离子处理室的连接处设有大气隔离真空锁,多个镀膜室与收卷室的连接处也设有大气隔离真空锁;大气隔离真空锁包括压紧气缸、气缸密封座、隔离密封座和压紧密封胶辊,隔离密封座底部设有柔性基材通过用的基材通道,且位于基材通道上下两侧的隔离密封座底部设有圆柱状凹槽,圆柱状凹槽底部位于基材通道下方,圆柱状凹槽上部位于基材通道上方且与隔离密封座的内部空间想通,压紧密封胶辊设于隔离密封座的内部空间中,压紧密封胶辊顶部与压紧气缸的输出端连接,压紧气缸通过气缸密封座安装于隔离密封座上方;大气隔离真空锁闭合时,压紧密封胶辊的下部嵌入圆柱状凹槽中。。详见官网: