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一种高均匀性LED平行光紫外曝光机光源系统

申请号: CN201710043423.5
申请人: 南京新趋势光电有限公司
申请日期: 2017年1月21日

摘要文本

(来 自 马 克 数 据 网) 本发明公开了一种高均匀性LED平行光紫外曝光机光源系统,包由阵列排布的紫外LED灯珠和对应的准直透镜紫外LED组成的平行光源模组、支撑光源模组或样品移动的机械与控制系统,该机械与控制系统使曝光时光源模组与样品在x‑y二维平面内相对运动,其运动轨迹均匀分布且最外围覆盖光源模组的最小重复单元。本发明采用移动旋转系统及其平行光源模组极大地提高了曝光均匀度,同时因降低了光源发散角而使得曝光强度提高,提高了曝光质量,解决了因分辨率不一致而导致的断线等现象;本发明还有利于多种波长的平行光实现均匀曝光,从而适应不同的油墨、光阻。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种高均匀性LED平行光紫外曝光机光源系统
专利类型 发明授权
申请号 CN201710043423.5
申请日 2017年1月21日
公告号 CN106773549B
公开日 2024年2月27日
IPC主分类号 G03F7/20
权利人 南京新趋势光电有限公司
发明人 周玉刚; 蔡云峰
地址 江苏省南京市栖霞区恒园路龙港科技园B2栋4-1

专利主权项内容

1.一种高均匀性LED平行光紫外曝光机光源系统,其特征在于:包括由阵列排布的紫外LED灯珠、和紫外LED对应的准直透镜、MCPCB和散热平台组成的平行光源模组、支撑光源模组或样品移动的机械与控制系统,紫外LED灯珠焊接在MCPCB上,并通过MCPCB的布线及其上的焊线连接实现与外部驱动电源连接,MCPCB通过螺丝固定在散热平台上,MCPCB和散热平台之间有导热硅脂;该机械与控制系统使曝光时光源模组与样品在x-y二维平面内相对运动,其运动轨迹均匀分布且最外围覆盖光源模组的最小重复单元,曝光时所述光源模组与样品在x-y二维平面内相对运动的轨迹近似为多组阿基米德螺线,可具体描述为:当 2NT≤t<(2N+1)T,N=0,1,2…时,x=vtcos(ωt)y=vtsin(ωt)当(2N+1)T≤t<(2N+2)T,N=0,1,2…时,x=(vT-vt)cos(ωt)y=(vT-vt)sin(ωt),其中vT为螺线中心到最远处距离,ωT为单一阿基米德螺线旋转的角度,曝光总时间t大于2T; vT不小于光源的最小重复单元的最长对角长度的一半,ωT为720°以上,并且曝光总时间t≥4T。expexp