← 返回列表

硅异质结太阳电池及其制备方法

申请号: CN201710456695.8
申请人: 国家电投集团新能源科技有限公司
申请日期: 2017年6月16日

摘要文本

本发明公开了硅异质结太阳电池及其制备方法。其中,该太阳电池包括:n型晶硅衬底层;轻掺杂n型氢化非晶硅缓冲层,氢化非晶硅缓冲层形成在衬底层的上、下两侧表面上;重掺杂p型氢化非晶硅发射极层,氢化非晶硅发射极层形成在一侧氢化非晶硅缓冲层的表面上;重掺杂n型氢化非晶硅背场层,氢化非晶硅背场层形成在另一侧氢化非晶硅缓冲层的表面上;透明导电氧化物层,透明导电氧化物层形成在氢化非晶硅发射极层和氢化非晶硅背场层的表面上;金属栅线电极层,金属栅线电极层包括:合金过渡层,合金过渡层形成在透明导电氧化物层、氢化非晶硅背场层和氢化非晶硅发射极层至少一层表面上;含铜导电合金层,含铜导电合金层形成在合金过渡层的表面上。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 硅异质结太阳电池及其制备方法
专利类型 发明授权
申请号 CN201710456695.8
申请日 2017年6月16日
公告号 CN109148614B
公开日 2024年1月9日
IPC主分类号 H01L31/0224
权利人 国家电投集团新能源科技有限公司
发明人 田宏波; 王伟; 赵晓霞; 王恩宇; 宗军; 李洋; 杨瑞鹏; 周永谋
地址 江西省南昌市高新技术产业开发区瑶湖西大道光电产业园1号楼

专利主权项内容

1.一种硅异质结太阳电池,其特征在于,包括:n型晶硅衬底层;轻掺杂n型氢化非晶硅缓冲层,所述轻掺杂n型氢化非晶硅缓冲层形成在所述n型晶硅衬底层的上、下两侧表面上;重掺杂p型氢化非晶硅发射极层,所述重掺杂p型氢化非晶硅发射极层形成在一侧所述轻掺杂n型氢化非晶硅缓冲层的表面上;重掺杂n型氢化非晶硅背场层,所述重掺杂n型氢化非晶硅背场层形成在另一侧所述轻掺杂n型氢化非晶硅缓冲层的表面上;透明导电氧化物层,所述透明导电氧化物层形成在所述重掺杂p型氢化非晶硅发射极层和所述重掺杂n型氢化非晶硅背场层的表面上;金属栅线电极层,所述金属栅线电极层包括:合金过渡层,所述合金过渡层形成在所述透明导电氧化物层、所述重掺杂n型氢化非晶硅背场层和所述重掺杂p型氢化非晶硅发射极层的至少一层的表面上;含铜导电合金层,所述含铜导电合金层形成在所述合金过渡层的表面上;所述合金过渡层含有选自Cu、Mo、W、Ti、Ni、Cr、Al、Mg、Ta、Sn、Zn和Ag中的至少两种金属,所述含铜导电合金层含有Cu和选自Mo、W、Ti、Ni、Cr、Al、Mg、Ta、Sn、Zn和Ag中的至少一种金属;所述合金过渡层的厚度为5-300 nm,所述含铜导电合金层的厚度为1-100μm。