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抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统
摘要文本
本发明属于光学测量技术领域，具体涉及一种抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统。该测量系统包括取样装置和测量装置，取样装置包括球状真空靶室和成像镜头，球状真空靶室内设置有靶点和带有打靶激光通道的漫反射板，漫反射板附着于球状真空靶室内壁上；球状真空靶室的球壁上设置有测量窗口；打靶激光入射靶点产生的近背向散射光沿打靶反方向散射后由漫反射板产生漫反射，漫反射光穿透测量窗口后再通过成像镜头进入测量装置；成像镜头将漫反射板成像于一次像面，一次像面所在的平面上设置有隔离屏，隔离屏带有多个通光孔。本发明通过设置隔离屏，排除了靶室内壁散射的杂光进入诊断光路的可能性，起到了杂散光屏蔽的效果。
申请人信息
- 申请人:中国科学院西安光学精密机械研究所
- 申请人地址:710119 陕西省西安市高新区新型工业园信息大道17号
- 发明人: 中国科学院西安光学精密机械研究所
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN201711343146.6 |
| 申请日 | 2017年12月14日 |
| 公告号 | CN107991064B |
| 公开日 | 2024年1月30日 |
| IPC主分类号 | G01M11/02 |
| 权利人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 发明人 | 闫亚东; 何俊华; 张敏; 韦明智; 薛艳博; 许瑞华 |
| 地址 | 陕西省西安市高新区新型工业园信息大道17号 |
专利主权项内容
1.一种抗杂散光干扰的近背向散射光测量系统，包括取样装置和测量装置，其特征在于：所述取样装置包括球状真空靶室和成像镜头，所述球状真空靶室内设置有靶点和带有打靶激光通道的漫反射板，所述漫反射板附着于球状真空靶室内壁上；所述球状真空靶室的球壁上设置有测量窗口；打靶激光入射靶点产生的近背向散射光沿打靶反方向散射后由漫反射板产生漫反射，漫反射光穿透测量窗口后再通过成像镜头进入测量装置；所述成像镜头将漫反射板成像于一次像面，一次像面所在的平面上设置有隔离屏，所述隔离屏带有多个通光孔；所述测量装置包括沿光路传播方向依次设置的缩束正透镜和二向色镜；所述二向色镜将光谱分离后，长波被透射进入长波透射光测量单元，短波被反射进入短波反射光测量单元。