一种具有超低功耗和高写裕度的12T TFET SRAM单元电路
摘要文本
本发明公开了一种具有超低功耗和高写裕度的12T TFET SRAM单元电路,其利用TFET相比于MOSFET具有更小的亚阈值摆幅和更高的开关比等特性,不仅解决了传统MOSFET SRAM单元结构的静态功耗大的问题,在相同的工作电压下如0.3V到0.6V时,其静态功耗与其他的TFET SRAM单元结构相比,其静态功耗至少降低了4个数量级,而且提高了TFET SRAM单元的写裕度和稳定性;即消除了TFET做SRAM传输管时出现的正偏漏电流问题,降低了单元的静态功耗,提高了单元的稳定性和写能力。
申请人信息
- 申请人:安徽大学
- 申请人地址:230601 安徽省合肥市经济开发区九龙路111号
- 发明人: 安徽大学
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种具有超低功耗和高写裕度的12T TFET SRAM单元电路 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN201811505310.3 |
| 申请日 | 2018/12/10 |
| 公告号 | CN109658960B |
| 公开日 | 2024/3/15 |
| IPC主分类号 | G11C11/402 |
| 权利人 | 安徽大学 |
| 发明人 | 卢文娟; 董兰志; 彭春雨; 吴秀龙; 蔺智挺; 陈军宁 |
| 地址 | 安徽省合肥市经济技术开发区九龙路111号安徽大学磬苑校区 |
专利主权项内容
1.一种具有超低功耗和高写裕度的12T TFET SRAM单元电路,其特征在于,包括:八个NTFET晶体管和四个PTFET晶体管;八个NTFET晶体管依次记为N1~N8,四个PTFET晶体管依次记为P1~P4;其中:VDD和NTFET晶体管N1的漏极电连接,同时VDD也与PTFET晶体管P1及PTFET晶体管P2的源极电连接;PTFET晶体管P1的漏极,与NTFET晶体管N3的漏极、PTFET晶体管P2的栅极、NTFET晶体管N4及NTFET晶体管N8的栅极电连接;PTFET晶体管P2的漏极,与PTFET晶体管P3及PTFET晶体管P4的漏极、以及NTFET晶体管N4及NTFET晶体管N5的漏极电连接;PTFET晶体管P3的源极,与PTFET晶体管P4的源极、PTFET晶体管P1的栅极、NTFET晶体管N2的源极、以及NTFET晶体管N3的栅极电连接;NTFET晶体管N1的源极与NTFET晶体管N2的漏极电连接;NTFET晶体管N5的源极与NTFET晶体管N6的漏极电连接;NTFET晶体管N7的源极与NTFET晶体管N8的漏极电连接;NTFET晶体管N3、NTFET晶体管N4、NTFET晶体管N6及NTFET晶体管N8的源极与GND电连接;位线WL与NTFET晶体管N1即NTFET晶体管N6的栅极、以及PTFET晶体管P4的栅极电连接;位线WLA连接NTFET晶体管N2的栅极以及PTFET晶体管P3的栅极;位线WLB连接NTFET晶体管N5的栅极;读字线WR连接NTFET晶体管N7的栅极;读位线RBL连接NTFET晶体管N7的漏极;在保持状态下,WL与WLA和WLB为低电平,NTFET晶体管N1、N2、N5及N6处于关闭状态,PTFET晶体管P3和P4开启;写操作:假设进行写0操作,此时WL与WLA置为高电平,同时WLB保持原状态即低电平;此时,NTFET晶体管N1与N2打开,PTFET晶体管P3与P4关闭,VDD通过NTFET晶体管N1与N2给Q2点充电,使得Q2点电压为高电平,由PTFET晶体管P1和NTFET晶体管N3组成的反相器翻转为0,Q点翻转后会反馈给由PTFET晶体管P2和NTFET晶体管N4组成的反相器使得QB翻转;当完成写操作后,WL,WLA置为低电平,PTFET晶体管P3、P4打开,两个反相器恢复锁存状态,保证了单元的稳定性;当进行写“1”操作时,假设Q为0,QB为1,写1操作时将WL与WLB置为高电平,WLA保持原状态0,传输管NTFET晶体管N5、N6开启,QB通过N5、N6放电为低电平,WLA为低电平,此时PTFET晶体管P3是开启的,Q2通过PTFET晶体管P3与NTFET晶体管N5、N6放电至低电平,使得P1、N3组成的反相器翻转为1,从而完成写1操作;读操作:假设单元存储点Q存储的数据为1,当进行读操作时,首先将RBL预充为高电平,WL、WLA、WLB保持原状态0,将待读单元所在的读位线WR置为高电平;Q点电压为1,故NTFET晶体管N8开启,同时WR为高电平,故NTFET晶体管N7也处于开启状态,RBL通过N7、N8放电至低电平,SRAM阵列中的灵敏放大器检测到RBL电平的变化实现对SRAM单元存储数据的读取。